Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions bringt mit der DuoVane C eine chemiebeständige Drehschieber-Vakuumpumpe auf den Markt, die speziell für den Einsatz mit aggressiven und korrosiven Prozessmedien konzipiert wurde. Die zwei Modelle DuoVane 12 C und 22 C decken Saugvermögen von 12 bzw. 22 m³/h ab und erreichen einen Enddruck von weniger als 4 · 10⁻³ hPa.
Die C-Version schließt an die bewährten C-Versionen der früheren Pascal- und DuoLine-Baureihen an und überführt deren Stärken in die neue DuoVane-Plattform. Neben kompakten Abmessungen und robuster Bauweise stehen weltweit erhältliche Wechsel- und Drehstrommotorvarianten zur Verfügung.
PEEK-Schieber und PFPE-Öl als Basis für chemische Beständigkeit
Die chemische Beständigkeit der DuoVane C beruht auf zwei zentralen Materialentscheidungen. Hochbeständige PEEK-Schieber erhöhen die Widerstandsfähigkeit gegenüber den in Kundenanwendungen eingesetzten Prozessmedien, während der Betrieb mit hochreinem, inertem PFPE-Öl chemisch bedingte Alterungsprozesse reduziert. Beide Maßnahmen zusammen sorgen für einen stabilen und zuverlässigen Langzeitbetrieb auch unter chemisch anspruchsvollen Bedingungen.
Das Gasballastsystem aus Edelstahl ergänzt dieses Konzept: Es ermöglicht ein zuverlässiges Handling kondensierbarer und aggressiver Prozessmedien und trägt zur Gesamtbeständigkeit der Drehschieber-Vakuumpumpe bei. Das innovative Design senkt das Leckrisiko, verhindert sowohl das Eindringen von Luft in die Pumpe als auch das unkontrollierte Austreten von Prozessmedien.
Prozesssicherheit durch optimierte Anschlüsse und Ventiltechnik
Für die Integration in automatisierte Prozesse verfügt die DuoVane C über zwei verschiedene 1/8″-Gewindeanschlüsse, die eine flexible Installation automatischer Ventile in zwei Einbaulagen ermöglichen. Diese Lösung erhöht die Prozesssicherheit und verbessert die Eignung der Pumpe für Anwendungen mit erhöhten Korrosionsanforderungen.
Ein optimiertes Hochvakuum-Sicherheitsventil sorgt für eine stabile Druckbasis, indem es durch kurze Schließzeiten beim Abschalten und im Störungsfall Verunreinigungen zuverlässig verhindert. Dieser Aspekt ist laut Hersteller insbesondere für die Lecksuche relevant, bei der eine konstante Druckbasis als Voraussetzung gilt. Fabian Böcher, Produktmanager Drehschieber-Vakuumpumpen bei Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions, ordnet die Neuentwicklung ein: „Die DuoVane C ist der Nachfolger der C-Versionen unserer früheren Pascal und DuoLine Baureihen. Wir setzen ihre bewährten Stärken konsequent fort, jetzt im Rahmen der neuen DuoVane Plattform. Diese Vakuumpumpen sind weltweit einsetzbar, zuverlässig und leistungsstark.“
